MARCH AP Batch Series

Ang CKD Technology ay hindi lamang may mga bagong makina na may stock, na magagamit kaagad.

Mayroon din kaming detalyadong negosyo sa pag-upa, na handang ihatid ang iyong partikular na pangangailangan sa produksyon habang makabuluhang binabawasan ang iyong paunang puhunan. Makipag-ugnayan sa amin para sa higit pang mga detalye.

Ang CKD ay may pangkat ng mga propesyonal na inhinyero, na handang maghatid ng turn key na serbisyo.

Para sa pangangalakal ng mga ginamit na makina, mangyaring makipag-ugnayan sa amin sa pamamagitan ng Whatspp o email.

-----------------------------------------------------------------------------------

Pangkalahatang-ideya

Ang mga sistema ng paggamot sa plasma ng serye ng AP ay angkop para sa malawak na hanay ng mga aplikasyon, kabilang ang paglilinis ng plasma, pag-activate sa ibabaw, at pagpapabuti ng adhesion. Ang mga sistemang ito ay nagsisilbi sa mga sektor tulad ng semiconductor manufacturing, microelectronics packaging at assembly, at ang produksyon ng mga medikal at life science na kagamitan. Ang serye ng AP ay binubuo ng apat na batch na sistema ng pagpoproseso ng plasma, na nag-aalok ng maliit, katamtaman, at malalaking vacuum chamber na mga opsyon upang matugunan ang mga pangangailangan ng customer mula sa R&D na kapaligiran hanggang sa iba't ibang antas ng produksyon.

Mga Tampok at Mga Benepisyo ng Plasma Treatment Systems

● Ang PLC controller na may touchscreen interface ay nagbibigay ng intuitive na graphical na display at real-time na pagsubaybay sa proseso

● Ang flexible na disenyo ng istante ay nagbibigay-daan para sa pagproseso ng iba't ibang bahagi ng carrier sa alinman sa direkta o downstream na plasma mode

● Tinitiyak ng 13.56 MHz RF generator na may awtomatikong pagtutugma ng impedance ang hindi mapapantayang reproducibility ng proseso

● Ang proprietary software control system ay bumubuo ng data ng proseso at produksyon para sa statistical process control (SPC)

● Batch-style na operasyon; ang bawat unit ay ganap na self-contained at nangangailangan ng kaunting espasyo sa sahig

● Pump, chamber, control electronics, at 13.56 MHz RF generator ay nasa loob ng iisang enclosure

Mga Modelo at Configuration ng Plasma Treatment System

AP-600 at AP-300 Benchtop Plasma Treatment System:Ang AP-300 at AP-600 plasma treatment system ay mga benchtop unit na ganap na self-contained at nangangailangan ng kaunting workbench space. Ang chassis ng system ay naglalaman ng plasma chamber, control electronics, isang 13.56 MHz RF generator, at isang awtomatikong chamber matching network (tanging ang vacuum pump lamang ang matatagpuan sa labas). Ang access sa pagpapanatili ay ibinibigay sa pamamagitan ng magkadugtong na mga pinto o naaalis na mga panel. Sinusuportahan ng plasma chamber ang hanggang pitong naaalis at adjustable na pinapagana o naka-ground na mga istante upang ma-accommodate ang iba't ibang bahagi, assemblies, at carrier, kabilang ang mga magazine, tray, at wafer boat. Ang sistema ng pagpoproseso ng vacuum plasma ay tumanggap ng malawak na hanay ng mga prosesong gas, kabilang ang argon, oxygen, hydrogen, helium, at mga fluorinated na gas. Ang parehong mga modelo ay may standard na may dalawang (2) mass flow controller para sa pinakamainam na kontrol ng gas, na may dalawang (2) karagdagang unit na magagamit bilang mga opsyon (hanggang apat sa kabuuan). Ang mga maginhawang koneksyon sa utility ay nagpapadali sa pana-panahong pagkakalibrate na kinakailangan sa panahon ng mga proseso ng pagpapatunay.

AP-1000 Plasma Processing System:Ang AP-1000 platform ay nagbibigay-daan para sa ganap na pag-access sa harap, na nagpapadali sa madaling operasyon at pagpapanatili ng lahat ng panloob na bahagi. Ang pump ay naka-mount sa mga casters para sa madaling pagtanggal. Ang silid ng plasma ay itinayo mula sa 11-gauge na hindi kinakalawang na asero na may mga kagamitang aluminyo, na tinitiyak ang pambihirang tibay. Nagtatampok ang chamber ng maramihang naaalis at adjustable na istante upang tumanggap ng iba't ibang bahagi ng carrier, kabilang ang mga magazine, tray, wafer, at wafer boat. Nilagyan ng opsyonal na HTP (High Throughput) na mga istante, pinagsasama ng AP-1000 plasma processing system ang pagiging maaasahan at kalidad ng proseso ng AP-1000 platform kasama ang mga napatunayang bentahe ng natatanging disenyo ng shelf ng Nordson MARCH. Ang AP-1000 HTP ay nag-o-optimize sa paggamit ng mga reaktibong ion sa loob ng RF plasma, na nagpapahusay sa pagkakapareho ng pagproseso habang binabawasan ang mga oras ng pag-ikot. Ang AP-1000 HTP system ay sumusuporta sa isang hanay ng mga proseso ng gas, tulad ng argon, hydrogen, at helium. Ito ay karaniwang may apat na gas mass flow controllers upang matiyak ang pinakamainam na kontrol ng gas. Ang mga naka-slot na magazine ay nakaposisyon nang patayo sa loob ng silid.

Bukod pa rito, maaaring ilagay ang mga slotted magazine nang patayo sa loob ng chamber. Karaniwan, ang bawat magazine ay nagtataglay ng hindi bababa sa 20 lead frame. Ang AP-1000 plasma chamber ay kayang tumanggap ng hanggang 12 magazine, depende sa laki ng magazine.